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软X射线显微术Si3N4薄膜窗口的研制

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摘要介绍了在软Ｘ－射线显微术研究领域中有重要应用的Ｓｉ３Ｎ４薄膜窗口的实验室制作方法，并形成一套独特制备工艺，Ｓｉ３Ｎ４薄膜窗口的研制成功推动了我国软Ｘ射线显微术研究的发展。

DOI y2d3mek749/158319

作者张延惠;宋一中;谢行恕

机构地区不详

出处《分子科学学报：中英文版》 1996年4期

关键词软X射线显微术 Si3N4薄膜窗口 LPCVD 等离子体刻蚀

分类 [理学][化学]

出版日期 1996年04月14日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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分子科学学报：中英文版

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