一种基于标准CMOS工艺的∑-ΔADC设计与实现

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摘要 文章介绍了一款基于华润上华的0.5μmDPTMCMOS工艺的∑-ΔADC设计方法和实现过程。同时对∑-ΔADC实现的基本原理、过采样技术和噪声整形技术进行了论述。最后对其在具体的电路中的实现方法作了相应的探讨。
机构地区 不详
出处 《电子与封装》 2007年7期
出版日期 2007年07月17日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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