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《涂装与电镀》
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2010年4期
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铜离子浓度自动分析和控制系统
铜离子浓度自动分析和控制系统
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摘要
简要介绍铜离子浓度自动分析和控制系统,该系统可用于电解铜箔、电镀铜、化学沉铜、污水处理等工艺中铜离子浓度的在线分析、在线监控以及实现其他相关的辅助控制功能,该产品已经用于生产,并已经获得专利。
DOI
2d3orwlmd9/901619
作者
熊以俊;舒桂英
机构地区
不详
出处
《涂装与电镀》
2010年4期
关键词
铜离子浓度
自动分析
在线监控
分类
[化学工程][精细化工]
出版日期
2010年04月14日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
涂装与电镀
2010年4期
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