简介：第五届国际光子与光电子学会议（InternationalPhotonicsandOptoElectronicsMeeting,POEM2012）于2012年11月1-2日在武汉光电国家实验室盛大召开。国际光子与光电子学会议是由武汉光电国家实验室发起的覆盖光电子领域的大规模、多学科、综合性、高水平国际会议。经过多年坚持不懈的努力，已经形成一个紧密依托“武汉·中国光谷”、汇集众多国内外知名专家、学者、学术机构和企业，集学术性和实用性于一体的高水平、高质量学术会议品牌。

简介：第四届“中国光谷”国际光电子博览会暨论坛（OVCEXPO2005）已于2005年11月5日闭幕，这次盛会是OVCEXPO历史上规模最大、专业化程度最高、论坛质量最好的一次展会，在海内外取得了良好的口碑。四年的孕育再次证明，OVCEXPO的影响已从华人经济圈渗透到了全球经济圈，这更加坚实了OVCEXPO“追光”的脚步。在此我们诚挚邀请您在2006年11月2～5日参加第五届“中国光谷”国际光电子博览会暨论坛（OVCEXPO2006），交流信息、增进合作、共谋发展。

简介：狙击手在波黑地区对维和部队造成严重威胁。在历史上不少政府要人被狙击手伤害或杀害。因此，反狙击手成为各国关注的问题。耳前已开发了多种利用红外技术发现并准确确定狙击手位置的系统。

简介：设计了45°入射反中波透长波分束膜系，并进行了误差仿真分析。选用“Ge＋ZnS”和“ZnS＋YF3”两组高、低折射率材料，采用离子辅助电子束蒸发技术，经过大量的镀制实验与工艺改进，解决了薄膜应力累积、不牢固、波长易偏移等问题，获得了45°入射中波红外3．7～4．8μm波段反射率R998％，长波红外7．7～10．3μm波段透过率T≥95％、光学性能良好的反中波透长波红外分束膜。镀膜样品一次性通过了GJB2485-1995规定的高低温及附着力试验。试验结果表明，膜层致密性和附着力良好。

简介：为了验证双光路敏感器折反部件在实际工况下是否会发生成像失真及结构损坏,采用有限元分析软件MSC.Nastran对双光路敏感器结构进行了静态分析和模态分析,得到了结构的静态特性及固有频率。根据分析图像所得数据及反射定律计算,得到折反镜实际反射光线与理论反射光线的偏移量为0.03mm,小于设计时的理论安全值0.05mm,验证了折反部件在静力学作用下变形较小,成像不会失真;动态分析得到折反部件的基频为1647.5Hz,基频较高不易产生共振,具有一定的结构稳定性,成像结果令人满意。对进一步的结构优化设计提供理论支持;此外,对提高样机的可靠性,降低风险具有指导意义。

简介：为了实现离轴二次非球面反射镜几何参数的高精度测量,提出了一种激光干涉仪和激光跟踪仪相结合的测量方法。在离轴二次非球面反射镜的无像差点法干涉检测光路的基础上,使用激光跟踪仪的反射球标定离轴二次非球面镜的特征点位置和曲面的空间位置,通过简单计算得到反射面的几何参数。实验中对一离轴凹椭球反射镜进行测量,其二次曲面系数k和曲率c的测量精度分别达到了0.0001和0.0000002。结果表明这种测量方法用于离轴二次非球面反射镜几何参数的高精度测量是合理可行的。

简介：2010年11月6日，武汉光电国家实验室学术委员会召开了第一次会议。到会的学术委员会成员有周炳琨院士、王启明院士、王家骐院士、叶声华院士、朱中梁院士、吴培亨院士、沈绪榜院士、林尊琪院士、侯洵院士、龚旗煌教授等。武汉光电国家实验室理事会理事长李培根，主任叶朝辉，海外主任王中林，副主任姚建铨，常务副主任骆清铭等出席会议。实验室组建单位的代表中国科学院武汉物理与数学研究所书记詹明生、中船重工717所副所长鲍晓静、武汉邮科院张继军等也应邀出席会议。