简介:在中学化学实验教学中,Fe(OH)2的制备参照了人教版高中化学1(必修)第三章第二节《几种重要的金属化合物》教学内容中制备Fe(OH)3的方法。该方法制备出的Fe(OH)2极易被空气氧化,学生难以观察到白色絮状沉淀-Fe(OH)2。本文通过对氢氧化亚铁制备的原演示实验进行了一定的改进,可以让学生观察到比较明显的实验现象。
简介:为配合国内PCB产业的飞速发展而开发的HCL/NaClO3再生型酸性蚀刻系统。随着PCB产量的提升、产品的精密度越来越高、安全生产日益重要、环保的要求越来越苛刻,传统的HCL/H2O2再生型酸性蚀刻系统逐渐不能满足PCB产业的需求和环保要求,我司的HCL/NaClO3的酸性蚀刻系统具有更安全、环保、低酸度、低成本、蚀刻速度快、侧蚀小等诸多优点。
简介:文章通过对不同设计方式的线路侧蚀进行测试,根据测试结果对不同设计方式的线路使用不同的底片补偿,达到酸蚀后线宽一致的目的,同时还需要考虑工艺制程中对蚀刻因子的影响,如:曝光、显影和蚀刻。
简介:金属化流程虽然90年代又出现了以环保为号召的各种『直接电镀』(DirectPhdng)法,与成本较低的黑孔倒ackHole)法或影(Shadow)法等。但化钯化铜法仍居质量最稳定之龙头,为其他各种偏方所无法取代。
简介:镍,元素符号Ni,原子量58.7,密度8.88g/cm^3,Ni^2+的电化当量1.095g/AH。
简介:
简介:充分了解和掌握铜在各种类型蚀刻液中的蚀刻机理,通过严格的科学实验,测定出各类蚀刻液中工艺参数,把好PCB板蚀刻这一关。为此,就我公司AS-301型酸性蚀刻液的特点、蚀刻机理、影响因素、故障排除等进行简单介绍。
简介:中国铁塔股份有限公司(简称中国铁塔)与老挝政府、克里克老挝市场咨询有限公司联合出资设立的东南亚铁塔有限责任公司在老挝首都万象正式挂牌运营。老挝人民革命党中央委员会总书记、国家主席本扬同日在会见中国铁塔董事长、总经理佟吉禄时表示,通信是非常重要的行业,祝贺东南亚铁塔公司成立,大力支持东南亚铁塔公司在老挝发展。老挝计划投资部等多部门负责人出席揭牌仪式。
简介:讨论了酸性镀铜柱状结晶的形成原因,及其对PCB镀层性能的影响。研究发现,在光亮剂浓度及基础镀液浓度相同的前提下,降低电流密度会导致酸性镀铜柱状结晶形成的风险加大。在其他条件相同时,光亮剂浓度越高,越容易产生柱状结晶。柱状结晶不一定会导致孔铜的断裂开路,但对PCB镀层物理性能有潜在负面作用。
简介:化学镀铜技术是印制电路中的重要部分,采用正交实验法研究了以次亚磷酸钠为还原剂添加亚鉄氰化钾的化学镀铜溶液,得到了的最佳参数和条件。镀液中添加亚铁氰化钾可以显著降低沉积速度,使镀层变得均匀致密,形貌得到改善,电阻率明显降低,镀层中镍的含量也有所降低。
简介:在合成氨碳丙脱碳系统设备内,极易生成硫垢,从而影响设备的正常运行.本文针对硫垢,详细叙述了物理清除硫垢和化学清洗硫垢的工艺方法及优缺点,进一步证明采用化学清洗方法除硫垢具有实用性强、应用范围广、易操作等优点.
简介: 1前言 对于MOS晶体管的栅氧化膜来说,按照高集成化、高性能化的比例要求,在采用0.35μm工艺技术的64MDRAM中,要求薄膜减薄到10nm,而在0.25μm的256MDRAM中则要减薄到8nm.对于高性能CMOS逻辑电路来说,在薄膜化方面的要求比DRAM还要早一个时代,对于0.25μm工艺来说,则要求使用6nm这样极薄的氧化膜. ……
简介:本文要解答的问题是:1,二氧化碳雪清洗剂是怎样形成的?它与其它二氧化碳清洗剂有何不同?2,二氧化碳雪的清洗机理是怎样的?3,二氧化碳雪清洗剂有那些实际应用?4,使用二氧化碳雪清洗剂时应该注意那些问题?
简介:铜材料引线框架具有良好的导电导热性能,同时具备良好的机械性能和较低成本,但是由于框架和塑封料之间较差的粘结力在回流焊时容易造成封装体开裂。文章研究了铜框架氧化膜的特性,以及氧化膜对半导体封装的可靠性影响。根据试验,氧化膜会随着时间温度而增加,当氧气含量低于1%时增加缓慢。当氧化膜的厚度超过20nm时,塑封料与氧化铜之间的结合力就会显著下降,同时交界面的分层也会加剧。最后针对氧化膜厚度受控的产品做回流焊测试,确认是否有开裂,结果表明与结合力测试相符。氧化膜的厚度需要低于42.5nm,可以提高在reflow时的抗开裂性能。
简介:<正>在2012年12月于美国举行的"IEDM2012"上,被采用的4篇论文中,有2篇是有关氧化物半导体的成果。可以看出Si(硅)行业对该材料备受关注。氧化物半导体具有可在低温下制备、性能高且透明的特点,正在以高精细显示器的驱动晶体管为中心实现实用化,夏普于2012年针对液晶面板开始量产
简介:本文论述了氧化锌压敏电阻器的性能、应用及发展,提出了氧化镜压敏电阻器选用原则,简述了表面安装型氧化锌压敏电阻器的优点和发展趋势。
简介:气敏传感器在现代工农业、信息技术、环境监测等领域都有重要应用。随着这几个领域的发展,人类对其综合性能要求越来越强,进而不断积极改良气敏传感器的性能。金属氧化物气敏元件是利用金属氧化物半导体的表面电阻遇到被测气体发生变化的原理制成的电子器件,其选择性和稳定性是研究气敏元件的两项重要指标。文章概述了金属氧化物元件气敏特性的研究进展,介绍了基体材料、掺杂材料、气敏材料的制备工艺、电极材料及结构等几个因素对元件气敏特性的主要影响,并对各种因素的作用机理进行了分析。最后展望了金属氧化物气敏元件的发展前景。
简介:文章着重介绍高压水喷砂在汽车工业中的应用,结合工业企业的实际需求,运用现代自动控制技术,将繁琐、复杂的车体表面处理过程变得简单可行,生产效率大大提高,实现金属表面批量处理的流水线生产.
简介:<正>日本产业技术综合研究所日前发布消息说,他们通过自行开发的"大容量高纯度臭氧发生装置"生产出浓度高于90%的臭氧,并成功使用这种超高浓度的气体在400摄氏度较低温环境下制造出高品质的硅氧化膜。
优化设计“氢氧化亚铁的制备”实验
酸性蚀刻液工艺报告
酸性蚀刻中图形补偿的研究
细说酸性金钯与碱性金钯
酸性镀铜及表面镀(涂)覆工艺
控制光亮酸性镀铜质量的工艺方法
AS-301型酸性蚀刻液蚀刻机理、影响因素
中国铁塔控股的东南亚铁塔公司在老挝正式挂牌运营
酸性镀铜柱状结晶成因及其对PCB性能的影响
亚铁氰化钾添加于次亚磷酸钠还原化学镀铜的试验优化
合成氨碳丙脱碳系统中硫垢的清洗
0.4~0.25μm时代的栅氧化膜形成技术
二氧化碳雪清洗技术
引线框氧化与可靠性关系的研究
采用天然氧化物提高MOSFET截止频率
夏普推进IGZO量产,氧化物半导体备受关注
氧化锌压敏电阻器的性能及应用
金属氧化物气敏元件的研究进展
高压水喷砂,除金属表面浮锈和氧化皮
日本在较低温环境下研制出硅氧化膜