简介：近年来,最高能量在250MeV左右的质子辐照装置因在质子治疗、质子辐照效应研究等领域的应用前景而受到广泛关注。清华大学目前正在计划建设一个此类质子辐照装置,其最高能量可达230MeV,一个工作周期至少输出2×10^11个质子,且引出的束流是准连续的。该辐照装置的核心部分是一个能够将质子由7MeV加速到230MeV的同步质子加速器。简要介绍了该同步加速器的关键技术及设计结果,包括为实现高效累积足够流强而使用的剥离注入技术、为提升加速效率而使用的纵向绝热俘获技术以及为实现束流缓慢引出而使用的三阶共振引出技术。

简介：

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简介：TN2472004010183飞秒激光脉冲的谐波频率分辨光学开关法测量研究=MeasurementoffemtosecondlaserpulsesusingSHGfrequency-resolvedopticalgatingtechnique[刊,中]/王兆华(中科院物理所光物理开放实验室.北京(100080)),魏志义…∥物理学报.—2003,52(2).—362-366建立了一台谐波频率分辨光学开关法(FROG)飞秒

简介：TN2472002020999新型大功率光光束光斑质量测试仪的软件开发=Soft-waredevelpmentofanewtypehigh-powerlaserbeamqualityanalyzer[刊,中]/雷訇,李强,左铁钏(北京工业大学激光工程研究所.北京(100022))∥北京工业大学学报.—2001,27(2).—197-201采用VisualC++、VisualBasic和汇编等多种计算

简介：当堂反馈1．如图所示，锤子对钉子的作用力的施力物体是——，受力物体是——．画出锤子对钉子的作用力的示意图．

简介：本文推广了文献[1]的方法，给出了定数截尾情况下两参数Weibull分布的形状参数的区间估计，并通过大量的Monte—Carlo模拟考察了优选问题。另外还讨论了两参数的联合区间估计。文章最后通过实例说明了本文方法的应用。

简介：TN2522002042748有效折射率法的研究=Studyofeffectiveindexmethod[刊,中]/孙飞,刘润民,李国正(西安交通大学电子工程系.陕西,西安(710049))∥半导体光电.—2001,22(1).—34-37分析了有效折射率法及其计算偏差的产生原因,

简介：TN2522002010399测量NLO聚合物薄膜光波导传输损耗的方法=Meth-odsformeasuringtransmissionlossofNLOpoly-merthinfilms【刊,中]/吕增海,任诠,马常宝(山东大学光学系晶体材料国家重点实验室.山东,济南(250100))∥光电子·激光.—2001,12(1).—101-104

简介：介绍了同步辐射心血管造影术、计算机断层扫描术、肺部支气管成像术、乳腺成像术、辐射治疗等医学活体诊断和治疗技术的原理、应用现状以及近年来国际上各同步辐射实验室医学应用的发展情况．

简介：TN2495063683超短脉冲激光的脉宽测量=Measurementoftheultrashortlaserpulsewidth[刊,中]/文国庆,张树葵,周丕璋,陈骥,邬玉婷(西南核物理与化学研究

简介：TN2596042537Brillouin光纤应变传感中的参数理论计算=TheoreticalcalculationoftheparametersinBrillouinfibrestrainsensing[刊,中]/黄民双,陈伟民,黄尚廉(重庆大学光电技术及系统开放实验室.四川,重庆(630044)),王新强(重庆大学物理系.四川,重庆)∥光通信技术.—1996,20(1).—39—44,53

简介：O484.599042623用喇曼散射光谱估算纳米Ge晶粒平均尺寸=Estimationofcrystal—sizeofnano—GebyRamanscatteringspectra[刊,中]/王印月,郑树凯,杨映虎,郭永平（兰州大学物理系.甘肃,兰州（730000））,奇莉,甘润今（北京机械工业学院基础部.北京（100085））//光学学报.—1998,18（9）.—1265—1268用射频共溅射技术和真空退火方法制备了埋入SiO2基底中的纳米Ge复合膜(nc—Ge/SiO2。测量了不同温度退火后该复合膜的喇曼散射光谱,其结果与晶体Ge的喇曼谱相比,纳米Ge的喇曼峰位红移峰形变宽;用喇曼谱的参数计算了纳米Ge晶粒的平均尺寸。所得

简介：O484.52003053772厚度具有线性变化的吸收平板或膜层的非相干透射率和反射率=Incoherenttransmissivityandreflectivityofanabsorbingplaneplateorlayerwithlinearvariationsinthickness[刊,中]/钟迪生(辽宁大学物理系.辽宁,沈阳(110036))//应用光学.-2002,23(1).-40-43计算了垂直入射下厚度具有线性变化的吸收平板样品的非相干透射率和反射率(正面和反面),给出了直接确定无基底样品以及透明基底上薄膜能量(强度)系数的精确表达式。图3参3(郑锦玉)

简介：O484.52000031969TiO2薄膜厚度及其光学常数的测量=DeterminationofthicknessandopticalconstantsofTiO2film[刊,中]/王德育,袁春伟（东南大学分子与生物分子电子学实验室.江苏,南京（210096））//东南大学学报.—1999,29（5）.—105-108描述了非线性回归模型在TiO2薄膜的光学常数及其厚度测量中的应用。利用薄膜在可见光范围内的光谱

简介：O484.52001053428光谱法求解极化聚合物薄膜的光电系数=Calcldationofelectro-coefficientsofpoledpolymerfilmsusingspectralmethod[刊,中]/孟凡青,马常宝,张光辉,吕孟凯,袁多荣,房昌水,许东(山东大学晶体材料国家重点实验室.山东,济南(250100)),任诠(山东大学光电子信息与工程系。山东,济南(250100))//半导体光电.—2000,21(6).—402-404,409

简介：O484.5//TN304.0552002042890常规与纳米金刚石薄膜介电性能的比较=Comparisonofdielectricpropertiesbetweenconventionalandnanocrystallinediamondfilms[刊,中]/奚正蕾,莘海维,张志明,凌行,沈荷生,戴永兵,万永中,陆鸣(上海交通大学微电子技术研究所.上海(200030))∥微细加工技术.—2001,(4).—50-55

简介：O484.52003021238硅(001)衬底上生长的ZnO薄膜的AFM研究=AFMstudyofZnOthinfilmsonSi(001)substrates[刊,中]/章建隽(浙江大学信息科学与电子工程系.浙江,杭州(310028)),杨爱龄//电子显微学报.—2002,21(1).—39-42对采用电子束反应蒸镀方法低温下在硅(001)衬底上外延生长的ZnO薄膜的表面构像进行了原子力显微镜(AFM)观察,分析研究了不同的衬底温度对薄膜表面形貌及结构特性的影响。在250℃衬底温度下获得的ZnO

简介：已往的同步可靠性评估方法是基于分组试验极差数据的方法，而本文的同步可靠性评估方法是基于特征参数X标准差的方法。

简介：本文给定一截尾样本，在熵损失函数下，研究了两参数指数威布尔分布尺度参数在先验伽玛分布下的Bayes估计，并给出了该参数的Bayes区间估计。