简介:[摘要]电流模电路相对于电压模电路有着应用上的优势。本文从阻抗的观点出发阐明集成放大器命名的依据,通过具体电路分析二者原理上的区别和应用形式上的联系,对探明两种电路的本质,帮助学生正确应用电路和独立设计电路均有一定的作用。[关键词]电流模电压模电路原理应用电路[中图分类号]G434[文献标识码]A随着被处理信号的频率越来越高,电压型运算放大器的固有缺点开始阻碍它在高频、高速环境中的应用。人们已经认识到电流模电路可以解决电压模电路所遇到的一些难题,在速度、带宽、动态范围等方面获得更加优良的性能。在信号处理领域,电流模式的电路设计方法正在取代电压模式的传统设计方法,电流模式电路的发展和应用将把现代模拟集成电路推进到一个新阶段。电流模电路在现代电子电路中应用十分广泛[1],是传输、放大和处理电流信号的电路,它是以电流作为变量来分析和定标的。与传统的电压模电路相比,电流模电路具有以下突出特点:①频带宽,速度高,可以突破电压模电路中增益带宽积为常数的限制,从而容易实现宽频带与高增益的特性;②由于电流模采用匹配技术,在电路结构上精确对称,因此可抵消IC自身的非线性,不需采用负反馈就能对信号实现线性处理;③由于采用跨导线性环路,使电路的复杂程度变得简单;④在低电压供电时,电流模电路的电流输出可以获得很宽的动态范围。对电流模电路与电压模电路的正确认识是电路设计与应用的前提。本文就集成电压模与电流模的区别与应用进行初探,帮助学生对两种模式电路加深理解......
简介:目的:探讨上颌后牙区采用冲压式上颌窦底提升术植骨与不植骨同期种植的效果。方法:2001年1月—2007年12月,共完成冲压式上颌窦底提升种植修复病例91例,男35例,女56例,随机分为2组,植骨组47例,植入57颗种植体;不植骨组44例,植入种植体51颗,共植入108颗种植体。上颌窦底剩余牙槽骨高度为5~11mm,提升幅度为2~6mm。平均随访56.8个月。35例患者(41颗种植体)于后期随访中行锥形束CT(CBCT)和根尖片,观察种植体新骨形成量和种植体突出窦底高度,应用SPSS17.0软件包对数据进行方差分析和t检验。结果:植骨组7颗种植体脱落,存留率为87.7%;不植骨组3颗种植体脱落,存留率为94.1%。CBCT扫描显示,提升幅度为2~4mm时,植骨组新骨形成高度为(2.7±1.3)mm,不植骨组为(2.4±1.5)mm,2组间无统计学差异;提升幅度为4~6mm时,植骨组新骨形成高度为(3.5±1.3)mm,不植骨组为(1.3±0.4)mm,植骨组比不植骨组新骨形成高度显著增加。结论:在上颌后牙缺失区采用冲压式上颌窦底提升、不植骨同期种植是安全可行的,植骨材料对于促进新骨形成并非必须,然而提升幅度较大时,植骨能获得更多的骨量。