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  • 简介:摘要:工件自动抛光机,由圆台面式自动抛光设备和四周流水式自动抛光设备二种,分别适合平面式或外凸的单一平面小零件的抛光和多平面零件的抛光。由基座及设置在基座上的抛光装置组成,多组电机及相应的抛光轮、工件夹具、转盘、机台、电机、底座组成。可设置多组抛光轮,按工步设计,工件在转盘转动后达到各工步的抛光,运转一周完成工件各工步的抛光,员工只要上、下工件即可。具有操作方便、省时、有效提高抛光质量且可满足大批量抛光需求等特点。

  • 标签: 工件 圆台面式 四周流水式 操作方便 高质量 自动抛光
  • 简介:摘要:随着我国核电技术不断发展,人们对降低核电厂员工辐照含量关注度日益增加。在核电设备中应用电解抛光技术,可以极大的减少再循环管道内放射物积聚的表面积,同时不影响材料性能,该工艺至少能减少再循环系统管道的放射物积聚达2-3倍。因此本文对电解抛光技术进行了深入的探讨,以供参阅。

  • 标签: 电解抛光技术 电解液 核电设备
  • 简介:摘 要:FMEA(Failure Mode and Effect Analysis,失效模式和影响分析)是一种用来确定潜在失效模式及其原因的分析方法[1]。本文结合了对NACHI不二越SPM23抛光设备在近几年的维修和管理,以实际事例说明了失效模式和影响分析对抛光设备进行风险评估的流程,较为详尽的阐述了FMEA的概念及FMEA在设备管理中的具体应用。

  • 标签: 设备管理 失效模式 影响分析 抛光设备
  • 简介:摘要为满足生产和科研的需要,达到以低成本加工出高精度产品的要求,我们在某些方面对LZM-6B型行星式单臂研磨抛光机进行了改造。结果表明,在各种研磨工艺参数相同时,对于工件加工表面的粗糙度,改造后的抛光机要优于改造前,但改造前后的去除率差别不大。

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  • 简介:摘要自动抛光机在实际应用过程中,可以根据已下达的指令,完成抛光工艺的一系列操作,这样不仅有利于提高抛光效率,而且还能够保证抛光质量。本文针对自动抛光机的具体设计情况进行分析,并且对抛光结构的受力情况进行研究,为自动抛光机的实际应用效果提供有效保障。

  • 标签: 自动抛光机 抛光结构 受力分析
  • 简介:目前大米抛光机在国内应用已十分广泛,而如何减少增碎,提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题。在这里就影响大米抛光抛光效果的因素作进一步分析,供大家参考。

  • 标签: 大米抛光机 抛光效果 表面光亮度 完整率 增碎 米粒
  • 简介:现有的抛光砖生产工艺由于在抛光阶段会产生大量的废渣.很难直接回收利用.从而对周边环境造成极大的破坏。其中抛光废渣中含有氯氧镁水泥等杂质是造成抛光废渣直接回收利用时产生坯体膨胀、针孔、变形等缺陷的最重要原因。针对现有的抛光砖在抛光阶段产生大量的废渣难于直接回收再用的难题,本文提出了分类回收、自然沉降、分开使用的最优处理思路,创新性地丰富了抛光废渣回收领域的技术内涵。

  • 标签: 抛光砖 抛光瓷粉 废渣 资源化利用 发泡
  • 简介:摘 要:奥氏体不锈钢制药设备由于其特殊的使用环境,通常需要对设备内外表面进行抛光处理,当然为了达到预期的视觉效果,作者通过现场跟踪奥氏体不锈钢制药设备的整个制作过程,对发现的问题进行了分析总结,提出了相应的解决方案,以期对制造厂的实际生产和提高不锈钢抛光产品的品质有所帮助。

  • 标签: 奥氏体不锈钢 抛光工艺 验收标准
  • 简介:基于DWPI数据库,通过检索、统计和分析国内外CMP抛光垫技术专利申请文献,分析CMP抛光垫技术领域的研究现状,归纳总结CMP抛光技术的研究方向和研究结论,并展望CMP抛光垫技术的发展趋势。

  • 标签: 抛光 化学机械 抛光垫 专利
  • 简介:摘要:6轴机器人对有复杂多曲面零件的打磨加工有特殊优势,柔性抛光控制核心技术是在抛光的过程中对力与速度的恒定控制。本文以PLC控制交流变频电机与伺服定位,对抛光力进行PID控制与抛光轮速度进行补偿计算,减少技术人员的工作难度,提高效率。

  • 标签: 机器人 恒力抛光 变频调速 伺服定位
  • 简介:摘要为了抑制抛光粉纳米颗粒的团聚,改善抛光液的性能,使光学玻璃获得更高的抛光速率与更低的表面粗糙度,在氧化铈抛光液中添加阴离子表面活性剂梅迪兰,研究了梅迪兰质量分数对抛光液中粒子粒径、分散性以及材料去除率和抛光后光学玻璃表面粗糙度的影响。

  • 标签: 表面活性剂 化学机械抛光 光学玻璃 材料去除率 表面粗糙度
  • 简介:摘要介绍大米抛光的原理及原因,分析大米抛光的利弊。

  • 标签: 大米 抛光 利弊
  • 简介:摘要宝石(Sapphire)是一种氧化铝(α-Al2O3)的单晶,又称为刚玉。蓝宝石单晶具有熔点高(2040℃),硬度高(莫氏硬度9),化学性能稳定,电绝缘性好,具有良好的热特性、极好的电气特性和介电特性,特别是具有优良的红外透过率等特性。在半导体领域中,主要是使用蓝宝石作为制备GaN薄膜的衬底,它与GaN之间的晶格常数失配率小,是目前最主要的GaN外延基片材料之一。

  • 标签: 蓝宝石衬底 化学机械抛光 纳米级 转速
  • 简介:本公司针对抛光粉传统生产方法中生产周期长,产品在使用时不易分散等缺点,进行了较长时间的研究,结果表明:新方法具有粒度可控制,煅烧后不需湿法研磨,不需湿法筛分等优点。并且,可不用电炉煅烧。这一方法

  • 标签: 抛光粉 周期长 罗宏 国内产品
  • 简介:摘要:为了改善铍青铜试样表面的抛光效果,解决传统机械抛光划痕深浅不一问题,我们研制了一种全新的抛光工艺——电解抛光。电解抛光工艺与溶液浓度、时间、电压等参数密切相关,合理控制与这些工艺参数才能达到理想的抛光效果。

  • 标签: 铍青铜   抛光   工艺参数
  • 简介:  摘要:液晶面框模具主要向蒸汽镜面模具方向发展, 蒸汽模镜面抛光的应用越来越广泛。本文详细说明了凹模镜面抛光的基本程序及注意要点。

  • 标签:    液晶面框 蒸汽镜面模具 镜面抛光
  • 简介:摘要:本文全面探讨了石英晶片抛光工艺的关键要点,包括抛光前的质量要求、抛光工艺流程、抛光所用材料与设备,以及抛光参数的选择与控制。通过分析抛光过程中遇到的常见问题及其解决策略,旨在为实现石英晶片的高效和高质量抛光提供理论指导和实践参考。通过精细控制抛光参数和优化抛光过程,可以有效提高晶片的表面平整度和减少表面粗糙度,从而满足半导体、光电通讯、精密仪器等领域对高质量石英晶片的需求。

  • 标签: 石英晶片 抛光工艺 表面质量 抛光参数 表面粗糙度
  • 简介:从传统光学冷加工的原理出发,分析了传统接触式加工方法中抛光剂与材料去除深度的理论关系,设计了微晶玻璃超光滑抛光过程中的抛光剂选型试验。通过比较基片的表面质量,摸索出适合微晶玻璃超光滑抛光的最佳抛光剂为金刚石微粉,成功加工出了超光滑微晶光学元件,其表面粗糙度达到0.2nm。

  • 标签: 微晶玻璃 超光滑表面 抛光 表面粗糙度