简介：摘要：本文研究的主要目的是在集成电路技术发展及纳米时代到来的背景下，强调刻蚀腔环境对电介质刻蚀混合制程的影响研究的重要性。通过设计刻蚀腔环境对电介质刻蚀混合制程的影响研究实验，并对实验的动机、概况、结果、结论几方面做出分析，以全面提升国家芯片技术制造质量，进而推动国家现代化发展，应对国外技术封锁。此次研究选用的是文献研究法，通过对相应文献的查找，为文章的分析提供一些理论基础。
刻蚀腔环境对电介质刻蚀混合制程的影响研究
