简介：摘要：电石英晶体滤波器能够在各种电子产品运行中起到良好的滤波作用，本文以10MHz带阻型电石英晶体滤波器研制为例，设计出基于三节3晶体格型电路为基础的中高频带阻型晶体滤波器产品，以此为相关设计工作开展提供参考。

简介：摘要：从上个世纪80年代起，薄膜晶体管(TFT) 的制备工艺、特性表征和模型建构等研究基本都是基于单栅器件进行的，所以单栅的TFT器件的工艺制备、器件结构解析模型等都研究的相对比较成熟。然而，近几年，一种具有发展潜力的双栅结构TFT引起了世界普遍的关注。双栅结构的TFT具有更强的电流驱动能力，更低的漏电流和较好的亚阈值特性，可以抑制短沟道效应等优点，逐渐成为颇具有发展前景的新型器件结构。本论文在氧化锌 (ZnO) 的性质和薄膜的制备方面做一些讨论，并对常规TFT的结构进行分析，探讨了双栅结构的ZnO薄膜晶体管的工作模式。 关键词：氧化锌，双栅结构，工作模式

简介：摘要：为解决通过喷射溶胶溶液制备光子晶体涂层时由于制备速度过快导致的非光子晶体大量生成的问题，开发了一种喷涂工艺，然后对材料进行热固化得到了防水并且明亮、均匀的光子晶体（PC）涂料。对PC涂料中的溶剂进行了改进，以快速形成液态PC中间体，并将其转化为高度结晶的PC涂层。由于反射的宽度和强度不同，PC涂料可呈现出高度饱和的颜色，通过调整二氧化硅颗粒的大小，可以得到红/黄/绿三种颜色。利用本产品可以同时在不同的基材上制备具有良好化学和机械稳定性的图案或完全覆盖的PC涂层。

简介：摘要：近年来，水凝胶因为其与生物组织相似的机械性质和化学性质，而越来越广泛地应用于表皮可穿戴设备和可植入设备。水凝胶声子晶体是具有特殊物理结构的超材料，通过设计可以使其具有所需的声学特性。因此，结合超声技术，水凝胶声子晶体可以作为传感器，应用于压力的监测。

简介：摘要：X射线衍射技术一直是合金晶体结构分析的重要工具，本论文研究了如何提升其精确性。通过优化实验条件和数据处理方法，我们成功地提高了合金晶体结构分析的准确性。首先，我们改进了X射线衍射仪器的性能，以获得更高分辨率的衍射图像。其次，我们采用先进的数据处理算法，有效减小了数据误差，提高了数据精确性。最后，我们还探讨了在不同合金体系中应用该技术的实际案例，验证了其在合金晶体结构分析中的可行性和精确性提升。本研究的结果为合金材料的研究和应用提供了更可靠的晶体结构信息。

简介：【 摘 要 】 如今对于半导体材料硅的研究已经日渐成熟，硅已经是最广泛应用的一类半导体，在微电子和集成电路行业中硅占据着主导地位，通常通过掺杂杂质来改变硅的导电性 能，硅的掺杂技术已经被普遍应用并且越来越成熟，并制成各种器件。然而在应力和本征缺陷对硅的电学性质的作用却很少提及。在对半导体材料的研究和学习中可知，缺陷的电学特性对半导体也有着一定的影响，参杂原子可以提供载流子提高其导电特性，而空位等缺陷在禁带中产生深能级，因此缺陷影响着半导体的禁带宽度和载流子数目。因此缺陷对硅的导电特性起着至关重要的作用。当对硅晶体某一晶向上施加一个拉伸或压缩的应力时会对硅结构造成一定的影响，导致禁带宽度会发生变化，使其导电性能也发生变化。本文所进行的工作就是研究应力和本征缺陷双重因素作用下影响硅电学性质机理 的第一性原理的研究。利用 Materials Studio 6.0 软件来计算分别对硅的 和 晶向施加拉伸和压缩的应力其电学性质变化并绘制应力随应变曲线，并且绘制出能带图、态密度图、分波态密度图，进一步解释其应力和本征缺陷对硅导电性质机理的影响。从而寻找不依赖掺杂而只利用本征缺陷和应力来调控硅的电学性质的方法。利用应力和 本征缺陷调节硅的禁带宽度改变半导体的性能并通过能带图、分波态密度图、态密度图进行理论分析其机理。 并解释应力和本征缺陷作用下硅晶体宏观现象的微观本原，并为硅工业发展提供理论支持。

简介：摘要：第三代半导体设备技术，是半导体发展历程中的重要技术，也是当前技术发展的支撑。本文通过浅析第三代半导体材料，对其晶体生长方式进行分析，探究SiC晶体设备构成。结合国内外进展情况，为国内SiC晶体设备技术发展提供更科学的技术，意在国内也能研制出更加成熟的生长设备。保证第三代半导体在更多领域得到科学应用，提升半导体材料的商业价值。

简介：摘 要：偏光片是薄膜晶体管液晶显示器中重要的关键零组件。本文介绍了偏光片的工作原理和原材料特性,并对薄膜晶体管液晶显示器用偏光片的关键技术进行分析与探讨。期许能给相关人士带来参考。

简介：摘要：氨基甲酸酯类农药是一类从氨基甲酸衍生出来的商业化农药，由于使用范围广，使用量巨大，在水中溶解性较强，毒性大，不容易降解，对水生生态系统和人类的健康造成了很大的危害。本文通过合成一种具有锐钛矿晶体结构的介孔材料Ce-MTiO2光催化降解几种商业化的氨基甲酸酯类农药来研究该催化剂在这类农药污染废水治理方面的作用并讨论了光照时间、农药浓度、催化剂用量和溶液体系pH值对光催化降解效率的影响。研究结果表明，该催化剂在紫外光照射下具有很好的催化活性，能将西维因、残杀威、灭多威和克百威这四种氨基甲酸酯农药快速降解，且在碱性条件下，这几种农药的降解率都是最高的，当溶液体系