AIXTRON凭硅基氮化镓系统AIX G5+C获颁商业杂志荣誉奖项

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摘要 全球半导体行业沉积设备供应商AIXTRON凭借其全自动新产品——金属氧化物化学汽相沉积(MOCVD)系统AIXG5+C,获商业杂志CompoundSemiconductor颁授2016年CSHigh-VolumeManufacturingAward奖项。该奖项是业界对国际化合物半导体行业内的关键创新领域进行评判,围绕芯片制造工艺流程,强调对业界发展所作出的贡献。AIXTRON方面表示,AIXG5+C是全球首套完备的MOCVD系统解决方案,可以满足硅基氮化镓LED和功率器件领域的外延类产品需求。该产品融合两项关键性创新,
机构地区 不详
出处 《电子与封装》 2016年5期
出版日期 2016年05月15日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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