得可亮相NEPCON上海彰显生产力优势

(整期优先)网络出版时间:2010-05-15
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得可于今年4月20日-22日,参加于上海光大中心举办的第20届NEPCON上海展。展会期间,参观者可从得可展出的最新HorizoniX平台系列、全面的印刷工序控制工具和下一代网板工艺中,体验得可的生产力优势。得可同时向观众演示一系列精选的先进产品和工艺流程。