简介:TH7032005031635MOCVD-Ga0.4In0.6As0.85P0.15/InP分布布喇格反射镜的反射率=ReflectivityofMOCVD-Ga0.4In0.6AS0.85P0.15/InPdistributedBraggreflectors[刊,中]/蒋红(中科院长春光机所激发态物理重点实验室.吉林,长春(130033)),金亿鑫…∥发光学报.-2004,25(6).-686-690采用MOCVD方法,获得高质量的InP和较高质量的GaxIn1-xAsyP1-y外延层,通过GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长制备出在工作波长为1.55μm时具有较高反射率的分布布喇格反射镜。根据光在多层介质膜中传播的传递
简介:以TiC14为源物质采用常压化学气相沉积法制备了TiO2薄膜。用紫外光谱测定了膜的透过率,进而计算出折光率、消光系数、光学带隙能等光学参数。结果发现,在不同气流量、沉积温度为100~250℃的条件下制备的TiO2膜,其折射率在2.16~2.82范围内,消光系数在0.04×10-3~6.70×10-3范围内,光学带隙能在2.8~3.08eV范围内。在光催化作用下,TiO2膜用于处理苯酚溶液,苯酚的转化率高达54.05%。关键词##4化学气相沉积(CVD);沉积率;折光率;消光系数;光催化更多还原