简介:摘要:在SMT技术下的印制电路板制造工艺当中,其产品最终的可焊性处理对其产品的使用起着非常关键的效果。但值得注意的是,影响印制板发生可焊性不良的因素比较多,所以在印制板的整体质量控制技术上还有待提高。对此,本文通过对印制板可焊性不良工艺技术案例进行分析后,对可能发生的可焊性不良问题进行排查,并给出对应的故障定点。
简介:摘要:在印制板电镀过程中,金属离子的传输机制及其影响因素是影响电镀质量和效率的关键因素。通过分析金属离子在电镀过程中的传输机制,探讨了影响这一过程的多个关键性因素,通过对电解液中金属离子的溶解和扩散过程的详细研究,揭示了金属离子在电镀液中的传输路径和规律,通过对电极表面的反应动力学和电化学过程的分析,阐述了金属离子在电极上的沉积和析出机制,在此基础上,进一步研究了温度、电流密度、氯离子浓度等多个因素对金属离子传输的影响,为优化印制板电镀工艺提供理论依据,通过深入挖掘金属离子的传输机制及其影响因素,本文为提高电镀效率,优化产品质量提供了新的视觉和可行性及建议。
简介:随着IC器件等集成度的提高,其I/O数迅速由300上升到1000以上(1521产品已商品化),2000年可2500左右。表面安装技术(SMT)也由OFP迅速走向BGA,并进而把SMT推向芯片级封装(CSP或MCP)。因此,剧烈要求PCB有更高密度相适应,以把高密度元件用先进封装技术安装到PCB上来实现电子产品“轻、薄、短、小”化和多功能化目标。芯片级封装密度的PCB欲完全按目前常规PCB生产技术(含条件)来实现是困难的。因而推动了PCB生产技术的进步与变革。90年代以来,日本首先开发成功各种高密度型印制板(如SLC、B~2it和各公司自命名的牌号),我们把它们归类为集层法多层板(BUMB,Build-upMultilayerBoard)。这一类型PCB是在常规高密度PCB(如双面板、各种多层,像埋盲孔,甚至基板)上的一面(N+a)或双面(a+N+b)用各种集(增)层方法增加1-4层(今后会更多)来形成外表面很高密度的印制板,其密度可在SMT到CSP封装上使用。由于投资少,便可明显提高PCB性能价格比,因而引起全世界PCB业界的注目、研究和生产。由于BUM板首先在日本开发和应用,因而发展尤为迅猛,按JPCA统计(不含MCM—L和C),1996年BUM产值为80亿日元,1997年猛增到215.7亿日元,一年内增加了1.7倍。生产厂家由11家增加到16家,目前欧美也纷纷加入了这个系列。从大量资料和报导上看,BUM