简介：用循环伏安法检测了四氢呋喃（ＴＨＦ）在硫酸溶液中铂极上的电化学反应，用气相色谱质谱随便法对产物进行了鉴定。两种主要产品为γ－丁内酯（γ－ＢＬ）与２－羟基四氢呋喃，它们分别是电流效率为５４．４％和４１．２％时的产物。另外，可以证明铊和铜的均匀分布设计能防止ＴＨＦ的氧化，因为电极表面的沉积物可能堵塞了其活性部位。１９９９年ＥＬＳＥＶＩＥＲ科技有限公司将保留全部权利。

简介：四羟甲基硫酸鳞(THPS)是一种非常新的杀菌剂，正广泛应用于冷却系统、油田水处理和造纸业。(THPS)见效快，对环境友好。本文简要叙述了THPS的化学性质、杀菌效果及其对环境的影响，列举了应用THPS控制冷却系统中微生物的5个实例。在所有应用实例中，THPS的杀菌效果均好于其它非氧化型杀菌剂，用THPS对环境的危险性小得多。

简介：近日，澳大利亚海关已经开始对出口到澳大利亚的中国产碳酸氢钠(也称小苏打)进行一项反倾销调查。

简介：

简介：ffff度旧离子膜经处理后，用于电解法制备四甲基氢氧化铵，经筛选，选择了合适的离子膜，电解得到的产品迭到产品质量指标，可降低四甲基氢氧化铵的生产成本。

简介：氯气处理工艺改造及设计的优化;优化的氯气处理工艺及主要设备的选用;几种液氯输送方式比较;氯处理系统工艺改造;氯气系统的稳定运行

简介：LYJⅡB-0．35／2200型离心式氯压机在氯气输送工艺中的应用，小型透平机的操作与维护，液氯生产系统的安全运行措施，活塞式氯气压缩机用于氯气液化工艺的探讨

简介：氯气处理工艺及设备的选择;两套氯气处理系统流程的对比和分析;LYJ-4200／0．36氯气透平压缩机的使用总结;氯气透平压缩机的工艺要求及布置;高压氯机系统产生液氯的处理方法;

简介：LYJ-4200／0．36氯气透平压缩机的使用总结;高压氯机系统产生液氯的处理方法;浅谈湿氯气冷却除沫工艺的选择;氯水处理工艺改进;氯氢处理安全技术与事故防范措施

简介：液氯屏蔽泵与液下泵的比较；氯气液化及汽化系统跑氯的安全防范及处理;完善氯气处理工艺降低氯中含水;氯水中游离氯回收方法改进;填料塔与板式塔组合流程在氯气干燥中的应用.

简介：LJ20081020事故氯处理装置的设计与应用；LJ20081021防止氯气窜入压缩机油系统的措施；LJ20081022事故氯吸收装置工艺技术比较；LJ20081023高温高压法液氯生产工艺的优越性；LJ200810243套电解系统氯氢操作特点及安全连锁；LJ20081025液氯生产工艺改进。

简介：氯气处理系统隐患改造，液氯冷冻系统节能改造，屏蔽泵用于液氯输送的探析与改进，新老氯氨处理装置对比，氯气干燥工序除雾器的选择，真空脱氯系统中存在的问题及解决办法，浅谈提高氯气安全保障的措施，盐雾处理装置改造……

简介：

简介：两套氯气处理工艺比较;氢气安全问题的预防和处理措施;氯气处理工艺研究;新技术在液氯工序的应用;离子膜法电解氯气液化工艺优化;液下泵和屏蔽泵在液氯充装中的应用;氯气干燥工艺优化;

简介：目前在人类所能够利用的能源中,石油占有最重要的位置,人类所需能源的大部分,是石油提供的。但石油是一种不可再生的能源,存储量非常有限,而随着家庭汽车拥有量的增加,全球对石油的需求量不断增加;发达国家

简介：

简介：在DSM研究所采用三种不同的流程分离氢:低温精馏法,变压吸附法和薄膜渗透法。采用低温精馏法提取纯度89—92%的氢和99.999%氩,原料气是氨尾气。该设备能大规模生产(20000m~3/h)氢和生产氩。因为聚合终端反应需要纯度很高的氢,为此,又安装了一台变压吸附设备,生产纯度为99.9995%的氢。另外,又安装了一台薄膜分离设备从氨尾气中分离总纯度为88%—91%的氢。目前还安装一台新型薄膜分离设备,生产的氢气纯度可达98.2%,该设备的原料气是低温产品气。计算表明,采用薄膜渗透法是经济、可行的选择。图5表3参4。

简介：本文介绍了国内首次开发成功的燃氢锅炉的特点，并作了经济效益分析，为氯碱企业提高H2利用率另辟了一条途径。

简介：锑白（三氧化二锑）的工业生产方法可分为火法和湿法两种，我国主要以火法生产锑白。近几年来，酸性氧液氧化法（湿法）因工艺过程简单，一级品收率等优点受到了广泛的重视，研究逐步深入，生产工艺也日趋成熟。

简介：介绍了可用于电解水和碱金属氯化物溶液（如盐水溶液）的一种新的低氧过电位阴极。给出该阴极的制备方法。此阴极含有一种导电金属；其涂层中含有至少一种有机化合物如氨基酸、一元羧酸、二元羧酸、一元氨、二元氨、三元氨、四元氨及其上述物质的衍生物，但其碳含一（质量分散、下同）要保证在0．5％－18％；选自镍－铁、镍－钴及镍－铟，且其中铟含量为1％－90％的金属组分，低氢过电位阴极的制备过程包括：在至少含镍离子（可选自镍和铁离子、镍和钴离子或镍和铟离子）和至少一种有机化合物（可选自氨基酸、一元羧酸、二元羧酸、一元氨、二元氨、三元、四元氨及其上述物质的衍生物）的电镀浴中，在导电基质的表面进行电溶积形成一层涂层。